Российские учёные завершили научно-исследовательские работы по отечественному многолучевому электронному литографу для выпуска микросхем с нормами от 350 нм до нескольких нанометров. Подготовлен проект, дальше начнут опытно-конструкторские работы, а первый опытный образец может появиться примерно через три года. Установка на мультикатоде формирует множество независимых лучей и, по расчётам, сократит обработку пластины с 1,5–2 недель до 5–7 минут, увеличив производительность примерно в 3000 раз.
