литограф

В России разработали установку электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм, её создал Зеленоградский нанотехнологический центр. Два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырёх месяцев. Установка нужна для безмасковой литографии и изготовления...

Российские учёные завершили научно-исследовательские работы по отечественному многолучевому электронному литографу для выпуска микросхем с нормами от 350 нм до нескольких нанометров. Подготовлен проект, дальше начнут опытно-конструкторские работы, а первый опытный образец может появиться...

Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. "В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство...

Зеленоградский нанотехнологический центр, специализирующийся на производстве литографов, сенсоров, микросхем и других устройств, подписал меморандум о сотрудничестве с иранским Штабом по развитию микротехнологий. Россия и Иран начали новый этап сотрудничества, подписав меморандум, который...

На предприятии «Лассард» изготовлены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм. Лазер даёт возможность модифицировать характеристики в сторону более тонкой топологии...