В России разработали установку электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм, её создал Зеленоградский нанотехнологический центр. Два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырёх месяцев. Установка нужна для безмасковой литографии и изготовления фотошаблонов, что удобно для прототипов, НИОКР и малых партий чипов. Для массового выпуска она слишком медленная, но важна для исследований и спецэлектроники, в том числе космической.
