В Москве создали первый фотолитограф с разрешением 350нм. В перспективе на 130нм и 65нм

Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. "В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», — говориться в сообщении. Мэр отметил, что фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом. Также мэр подчеркнул, что отечественный фотолитограф «серьезно отличается от зарубежных аналогов», так как в нем использовался твердотельный лазер в качестве излучения.

Сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нм и 65нм. Завершить фотолитограф на 130нм планируется в 2026 году.