На предприятии «Лассард» изготовлены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм. Лазер даёт возможность модифицировать характеристики в сторону более тонкой топологии. Сейчас запущена первая партия отечественных процессоров. Идёт освоение и изучения новой производственной линии. «Лассард» выступает как разработчик эксимерного лазера для литографа. Саму же литографическую установку разрабатывает Зеленоградский нанотехнологический центр. Срок её поставки – 2026 год, но потенциальные заказчики уже есть. Прежде всего, это, конечно, «Микрон», который заинтересован в масштабировании своего производства и на 130 нм, и на 90 нм, и на 65 нм, где по последней топологии есть пока только опытное производство и есть потребность перевести его в серийное.
В следующем году лазеры разработанные «Лассард» будут поставлены в Зеленоградский нанотехнологический центр для испытаний совместно с литографом на 130 нм. После 2026 года эти лазеры пойдут в серийное производство — будет производиться не менее 5 шт. в год.
В следующем году лазеры разработанные «Лассард» будут поставлены в Зеленоградский нанотехнологический центр для испытаний совместно с литографом на 130 нм. После 2026 года эти лазеры пойдут в серийное производство — будет производиться не менее 5 шт. в год.
Пять литографических установок в год — это уже хороший результат, поскольку они позволят запустить и масштабировать уже существующие в России производства и наладить промышленный выпуск отечественной микроэлектроники, в частности, таких чипов как MIK32 «Амур», использующие систему команд RISC-V.
Первое, что нужно понимать, — это полная утрата Россией компетенций по разработке классических фотолитографов — ключевой технологии производства микроэлектроники.
Дабы начать возрождение этой технической отрасли, в 2021 году были выделены почти 6 миллиардов рублей на разработку, по сути, аналога литографической машины компании ASML «PASCAL 5500/300C» 2002 года выпуска.
Так как компетенции были полностью утрачены, то вот просто так взять и создать собственный литограф, пусть даже 22-летней давности, не получится.
И пример тому — Китай, который выпускает собственные фотолитографы, способные производить 90-нм топологические структуры, и вот уже 15 лет не может разработать фотолитографическую машину для более тонких техпроцессов. Китай отстаёт от мирового лидера в создании фотолитографов, голландской компании ASML, более чем на 19 лет, и это отставание продолжает расти. Чтобы сократить разрыв, Китай вкладывает значительные средства в разработку и создание фотолитографа со сверхвысоким разрешением, который будет способен формировать топологию до 28 нм.
На данный момент Китай уже вложил в эту технологию более 5 млрд долларов, но этого оказалось недостаточно. Недавно был объявлен пакет помощи полупроводниковой промышленности на сумму 143 млрд долларов.
Это в два раза больше, чем у аналогичного пакета субсидирования микроэлектронной отрасли в США.
