Научно‑исследовательские институты Зеленограда НИИМЭ и НИИТМ разработали первое в России кластерные системы для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Установки позволят выпускать интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах 200 мм и 300 мм. Российские организации вошли в ТОП-5 компаний в мире, обладающих компетенциями в разработке и производстве данного класса техоборудования.
Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат потребность отечественной микроэлектроники. Особую ценность представляет модульность платформы: она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам. Модульная структура позволяет гибко конфигурировать оборудование в зависимости от потребностей и мощности производств. Все эти факторы влияют на снижение себестоимости продукции и улучшение качества чипов.
В дальнейшем разработанные и аттестованные в рамках проекта базовые технологические процессы осаждения и травления диэлектрических слоев являются базой для их адаптации под существующие техпроцессы и для разработки перспективных, включая 28 нм.
