Вы используете устаревший браузер. Этот и другие сайты могут отображаться в нём некорректно. Вам необходимо обновить браузер или попробовать использовать другой.
Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. "В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство...
Зеленоградский нанотехнологический центр, специализирующийся на производстве литографов, сенсоров, микросхем и других устройств, подписал меморандум о сотрудничестве с иранским Штабом по развитию микротехнологий. Россия и Иран начали новый этап сотрудничества, подписав меморандум, который...
На предприятии «Лассард» изготовлены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм. Лазер даёт возможность модифицировать характеристики в сторону более тонкой топологии...
На данном сайте используются файлы cookie, чтобы персонализировать контент и сохранить Ваш вход в систему, если Вы зарегистрируетесь.
Продолжая использовать этот сайт, Вы соглашаетесь на использование наших файлов cookie.