Установка позволяет получать структуры на подложках диаметром до 200 мм. Начальник лаборатории разработки эпитаксиального оборудования АО «НИИТМ» Дмитрий Пугачев отметил, что при круглосуточной работе машина способна производить до 2 тыс. пластин в год, на каждой из которых может разместиться несколько десятков тысяч транзисторов.
Разработка превосходит зарубежные аналоги по совокупности параметров, требует меньше расхода дорогостоящих исходных материалов и обеспечивает более длительный срок эксплуатации оснастки. На создание установки потребовалось пять лет. Серийное производство планируется запустить в 2025 году.
